近幾年，社會(huì)對(duì)攝影人才的需求量逐年增加，對(duì)于有攝影興趣或者想從事攝影行業(yè)的小伙伴來(lái)說(shuō)，出國(guó)留學(xué)是一個(gè)不錯(cuò)的選擇。而日本作為留學(xué)熱門(mén)國(guó)家之一，是不少中國(guó)藝術(shù)生的選擇。今天，51出國(guó)留學(xué)小編還為大家整理了日本攝影留學(xué)院校推薦及入學(xué)要求，大家一起來(lái)了解一下吧！
日本攝影留學(xué)院校推薦及入學(xué)要求
1.東京藝術(shù)大學(xué)
東京藝術(shù)大學(xué)的先端藝術(shù)表現(xiàn)專(zhuān)攻成立于1999年4月，于是它的修士課程便隨著99屆的一期生的畢業(yè)成立于2003年。先端藝術(shù)表現(xiàn)追求突破‘美術(shù)’領(lǐng)域的教育實(shí)踐。一直以來(lái)，藝大的學(xué)科編成都是根據(jù)所涉及的技法和專(zhuān)業(yè)方向來(lái)確定的。而先端藝術(shù)表現(xiàn)是，對(duì)藝術(shù)本身所抱有的意義本身——“表現(xiàn)的問(wèn)題”進(jìn)行研究。
入學(xué)要求：
日語(yǔ)要求：沒(méi)有硬性要求
作品要求：A4作品集60頁(yè)
試驗(yàn)內(nèi)容：作品集+研究計(jì)劃書(shū)+小論文+面試
2.武藏野美術(shù)大學(xué)
武藏野美術(shù)大學(xué)的映像專(zhuān)業(yè)開(kāi)設(shè)于1990年，在當(dāng)代影像藝術(shù)領(lǐng)域?qū)儆陧敿?jí)的學(xué)科。武藏野美術(shù)大學(xué)映像專(zhuān)業(yè)追求數(shù)字高畫(huà)質(zhì)，鼓勵(lì)學(xué)生掌握各種不同類(lèi)型圖像、影像創(chuàng)作方法。該專(zhuān)業(yè)的特點(diǎn)之一，提供影像藝術(shù)相關(guān)專(zhuān)業(yè)領(lǐng)域的全方位教學(xué)。映像專(zhuān)業(yè)的另外一個(gè)特點(diǎn)是，重視數(shù)字高畫(huà)質(zhì)，之所以這樣做，是因?yàn)閿?shù)字革命仍在不斷繼續(xù)。比如在電影院中，數(shù)字技術(shù)正在成為主流。另外，廣播與通訊的融合，電影與電視的發(fā)展，都在受到高畫(huà)質(zhì)革命的促進(jìn)。
入學(xué)要求：
日語(yǔ)要求：日本語(yǔ)能力考JLPT N2 / 留考 EJU 200
作品要求：近作兩部以上+作品集
試驗(yàn)內(nèi)容：作品集+研究計(jì)劃書(shū)+小論文+面試
3.多摩美術(shù)大學(xué)
多摩美術(shù)大學(xué)的寫(xiě)真是歸類(lèi)在平面設(shè)計(jì)下面的，同樣身處平面設(shè)計(jì)大方向的還有平面設(shè)計(jì)/環(huán)境設(shè)計(jì)/信息設(shè)計(jì)/字體設(shè)計(jì)/插畫(huà)/動(dòng)畫(huà)。多摩美術(shù)大學(xué)寫(xiě)真科的研究室目前只有上田義彥教授。并且從歷年考試結(jié)果來(lái)看，上田教授一般不會(huì)直接收修士，大家都是從預(yù)科讀起，所以就是一年預(yù)科+兩年修士，在學(xué)時(shí)間三年起步。
入學(xué)要求：
日語(yǔ)要求：日本語(yǔ)能力考JLPT N1 / 留考EJU 260點(diǎn)記述35點(diǎn)以上
作品要求：作品3部以上，形式自由
試驗(yàn)內(nèi)容：作品集+研究計(jì)劃書(shū)+小論文+面試（如小論文選擇英語(yǔ)語(yǔ)種，可免除日語(yǔ)要求條件）
4.東京造形大學(xué)
東京造形大學(xué)的寫(xiě)真專(zhuān)業(yè)，主要在于研究當(dāng)今時(shí)代所需要的新寫(xiě)真攝影的可能性以及社會(huì)性。當(dāng)然，學(xué)校的導(dǎo)師也十分鼓勵(lì)學(xué)生自由地跨越設(shè)計(jì)和美術(shù)各種領(lǐng)域，在社會(huì)中培養(yǎng)適應(yīng)現(xiàn)代課題的尖端綜合能力。所以，對(duì)于想跨專(zhuān)業(yè)學(xué)寫(xiě)真的同學(xué)們來(lái)說(shuō)，可以說(shuō)是非常的合適。
入學(xué)要求：
日語(yǔ)要求：日本語(yǔ)能力考JLPT N2 / 留考EJU 280點(diǎn)記述35點(diǎn)以上
作品要求：作品3部以上+作品集（審核需要）
試驗(yàn)內(nèi)容：作品集事前審核+研究計(jì)劃+小論文+面試
5.東京工藝大學(xué)
作為東工藝的源點(diǎn)專(zhuān)業(yè)，寫(xiě)真學(xué)科已存在近一個(gè)世紀(jì)。秉承著「學(xué)習(xí)以傳統(tǒng)為后盾的尖端攝影技術(shù)」，寫(xiě)真學(xué)科也在歲月長(zhǎng)河中逐漸成長(zhǎng)、發(fā)展為尖端技術(shù)與媒體藝術(shù)并駕齊驅(qū)的專(zhuān)業(yè)學(xué)系。東工藝寫(xiě)真學(xué)科基于悠久的傳統(tǒng)，帶領(lǐng)學(xué)生在寫(xiě)真表現(xiàn)基礎(chǔ)、數(shù)字?jǐn)z影、模擬攝影、實(shí)技等課程中領(lǐng)悟?qū)懻娴臉?gòu)成與真諦。另外，學(xué)校也將邀請(qǐng)活躍于世界舞臺(tái)的杰出攝影師到校舉辦特別講座，在與專(zhuān)業(yè)人士的切磋機(jī)會(huì)中，相信學(xué)生能夠建立自己的寫(xiě)真思維和創(chuàng)意視界。
入學(xué)要求：
日語(yǔ)要求：日本語(yǔ)能力考JLPT N2 / 留考EJU 240點(diǎn)以上
作品要求：作品形式自由
試驗(yàn)內(nèi)容：作品集+研究計(jì)劃+筆試（有英文題目）+面試
以上內(nèi)容就是關(guān)于日本攝影留學(xué)院校推薦及入學(xué)要求的詳細(xì)介紹，希望能給大家?guī)?lái)幫助。如果大家對(duì)申請(qǐng)這些院校還有相關(guān)問(wèn)題的話，那么可以隨時(shí)咨詢(xún)51出國(guó)留學(xué)顧問(wèn)。
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